薄膜雖然看起來就是一片薄薄的膜，但是其的作用卻是不可估量的。當然，其的制作也是非常復雜的一個過程，就小編所知，薄膜的應用參數就有不少，小編今天就是要跟大家聊聊關于薄膜應用的參數相關信息。薄膜的其中一種參數名稱叫二氧化鈦(TiO?)，下面我們來了解下這個是什么樣的物質：

       TiO?由于它的高折射率和相對堅固性，人們喜歡把這種高折射率材料用于可見光和近紅外線區域,但是它本身又難以得到一個穩定的結果.TiO?,Ti2O3. TiO,Ti，這些原材料氧-鈦原子的模擬比率分別為：2.0,1.67,1.5,1.0,0. 后發現比率為1.67的材料比較穩定并且大約在550nm生成一個重復性折射率為2.21的堅固的膜層，比率為2的材料第一層產生一個大約2.06的折射率，后面的膜層折射率接近于2.21.比率為1.0的材料需要7個膜層將折射率2.38降到2.21.這幾種膜料都無吸收性，幾乎每一個TiO2蒸著遵循一個原則：在可使用的光譜區內取得可以忽略的 吸收性，這樣可以降低氧氣壓力的限制以及溫度和蒸著速度的限制.TiO2需要使用IAD助鍍，氧氣輸入口在擋板下面.

       Ti3O5比其它類型的氧化物貴一些，可是很多人認為這種材料不穩定性的風險要小一些，PULKER等人指出，最后的折射率與無吸收性是隨著氧氣壓力和蒸著溫度而改變的，基板溫度高則得到高的折射率.例如，基板板溫度為400℃時在550納米波長得到的折射率為2.63，可是由于別的原因，高溫蒸著通常是不受歡迎的，而離子助鍍已成為一個普遍采用的方法其在低溫甚至在室溫時就可以得到比較高的折射。

       通常需要提供足夠的氧氣以避免(因為有吸收則降低透過率)，但是可能也需要降低吸收而增大鐳射損壞臨界值(LDT).TiO2的折射率與真空度和蒸發速度有很大的關系，但是經過充分預熔和IAD助鍍可以解決這一難題，所以在可見光和近紅外線光譜中，TiO2很受到人們的歡迎. 在IAD助鍍TiO2時，使用屏蔽柵式離子源蒸發則需要200EV，而用無屏蔽柵式離子源蒸發時則需要333EV或者更少一些，在那里平均能量估計大約是驅動電壓的60。

       如果離子能量超過以上數值，TiO2將有吸收.而SiO2有電子槍蒸發可以提供600EV碰撞(離子輻射)能量而沒有什么不良效應. TiO2/SiO2制程中都使用300EV的驅動電壓，目的是在兩種材料中都使用無柵極離子源，這樣避免每一層都改變驅動電壓，驅動電壓高低的選擇取決于TiO2所允許的范圍，而蒸著速度的高低取決于完全致密且無吸收膜所允許之范圍. TiO?用于防反膜，分光膜，冷光膜，濾光片，高反膜,眼鏡膜，熱反射鏡等，黑色顆粒狀和白色片狀，熔點：1175℃

       上述就是薄膜應用參數——二氧化鈦的相關信息說明，這些關于薄膜的應用參數雖然有點晦澀難懂，但是能多了解的話，對于大家對薄膜的選購也是有一定的幫助的，如有需要歡迎來電咨詢強輝科技。